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【2h】

Distribution of free carriers near heavily-doped epitaxial surfaces of n-type Ge(100) upon HF and HCl treatments

机译：在HF和HCl处理下，在n型Ge（100）的重掺杂外延表面附近的自由载流子的分布

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S. J. Park; L. Bolotov; N. Uchida; T. Tada;
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年度 2015
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